【摘　要】　目的　通过临床和扫描电镜观察半导体激光治疗牙本质过敏症的作用，并探讨其作用机制。方法　牙本质过敏的患牙100颗，分为两组，一组用半导体激光治疗，一组用常规氟化钠脱敏。结果　用半 导体激光治疗的患牙其敏感症状立即降低，即刻有效率达96%；而用氟化钠治疗的患牙，即 刻有效率为76%，两者有显著性差异(P＜0.01)。扫描电镜显示，用半导体激 光仪照 射后，牙本质小管口被封闭。结论　半导体激光治疗为一种安全、有效、 方便的牙本质过敏症的治疗方法。

　　牙本质过敏症是临床上比较常见、难以治愈的牙体疾病。本研究从临床上观察半导体激光对牙本质过敏症的脱敏作用，并且通过扫描电镜，观察半导体激光照射后的牙本质表面的形态改变，为临床治疗该症提供一种新的方法。

    1　材料和方法

    1.1　半导体激光仪治疗的临床实验
    1.1.1　病例选择　选择由磨损所致的咬合面牙本质暴露的过 敏症患者，无龋及其它非龋性疾病，且牙髓、根尖、牙周及全身条件较好的门诊病人56例， 年龄23～70岁，男19例，女37例，受试牙共100颗，其中实验牙50颗，对照牙50颗。牙 位分布见表1。
    1.1.2　材料　实验组采用MDC—500型半导体激光仪，其波长 为830nm,激光输出功率最高达500mV，光班直径5mm。对照组用临床上常用的75%氟化钠甘油 局部涂布脱敏。
    1.1.3　操作方法　实验组A：常规隔湿，吹干，用半导体激光仪的光导纤维头对准敏感区，照射180s，波长830nm，激光能量300mV(其中光导纤维棒的传输率为70%，故实际工作能量为210mV)。对照组B：常规隔湿，吹干，在敏感区用蘸有75%氟化钠甘油的小棉球擦拭120s。治疗前后用探针探测敏感区范围,评定疗效。操作均由同一名医生完成。
    1.1.4　疗效评定标准　疼痛程度判断采用石川修二的评定标准［1］。3度：可诱发难以忍受的疼痛；2度：可忍受的疼痛；1度：疼痛较轻微；0度：冷和机械刺激无疼痛。
　　疗效评定　显效：治疗前后度数差≥2；有效：治疗前后度数差1；无效：治疗前后度数差值为0。
    1.2　半导体激光仪照射后的牙面扫描电镜观察
　　取本院口腔外科局麻下拔除的埋伏阻生牙1颗，立即蒸馏水冲洗干净，去除表面血迹和软组织，然后置2.5%戊二醛液内备用。该牙根面无龋、无损，用金钢砂片将牙冠从釉牙骨质界处截去，以金钢钻磨去根面牙骨质，再用金钢石砂片从离釉牙骨质界3mm处截取一个牙本质片，厚约3mm。后沿牙根长轴方向将其均剖为二。第一片不作任何处理，为对照组。第二片牙本质表面用半导体激光仪照射3min、300mV,作为实验组。

    2　结果
    2.1　半导体激光临床脱敏疗效
　　激光照射组(A组)与常规氟化 甘油治疗组(B组)的疗效比较见表2。经卡方检验表明，激光照射的有效率明显高于氟化钠 涂布治疗(P＜0.01)。

表2　两组治疗后不同时间的有效率比较
Tab.2　The　efficiency　of　both　groups

2.2　半导体激光照射后的牙面扫描电镜表现
　　空白对照组牙表 面完整，牙本质小管开放，实验组牙本质小管口被封闭，见附图。

附图　A、B组牙面扫描电镜表现
①A组显示牙本质小管开放;②B组显示牙本质小管封闭
Fig. SEM showed

    ①the opening of the dentinal tubele in control group；②the sealing of the dentinal tubule

    3　讨论
　　关于牙本质过敏的机理有3种学说，即神经感受学说，成牙本质组织学说和流体动力学说［2］。目前，多数学者倾向于液体动力学说。液体动力学的
重要意义在于它说明任何能减少牙本质小管内液流量的方法，均可缓解牙本质过敏的症状，降低牙本质的通透性是目前治疗牙本质过敏症的主要方法［3］。
　　本实验用半导体激光仪局部照射，即刻有效率达96%。观察1月后，其有效率仍达85.71%，与对照组相比差异显著(P＜0.05)。说明半导体激光仪治疗牙本质过敏的疗效优于常规氟化钠脱敏。而且，扫描电镜显示，经半导体激光仪照射后，牙本质小管被堵塞封闭。减少和避免了牙本质小管内液体的流动， 从而达到降低牙本质的通透性，减少牙本质过敏症的目的。目前认为，是激光瞬间产生 的高热效应，使牙本质表面的有机物变性和无机物熔融，而达到封闭牙本质小管的目的［4］。因此，作者认为半导体激光仪的脱敏原理也可能在此。
　　1月后患者再次出现症状的原因是多方面的。Pashley［5］报道，CO2激光造成牙本质熔融层的深度为5μm。但是有关半导体激光照射后产生的牙本质熔融层的厚度尚未定论。因此，经半导体激光脱敏后，为保护牙面熔融 层封闭牙本质小管的作用持久而不被很快磨损掉，临床上应采取适当的调牙　合，不用患牙咀嚼硬性食物，纠正夜磨牙习惯，不用硬的牙刷刷牙等措施。对于1月后复查时再次出现症状的患者，用半导体激发仪再次照射后即刻，症状又缓解，并且再次出现症状的时间延长，疗效维持时间延长。这说明，照射时间长或照射剂量增高，可能有利于提高疗效。
　　半导体激光仪治疗牙本质过敏的远期疗效有待进一步观察。MDC—500型半导体激光仪的波长可达830nm,其组织穿透力很强，作用较深，反复照射或提高照射剂量是否会对牙髓组织产生不良影响，其产生的牙本质熔融层厚度如何，以怎样的输出功率，才能产生最适合的厚度封闭牙本质小管，而不对牙髓产生影响，这些都有待于进一步研究。

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